プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用

• 資料種別: 図書
• ISSN（シリーズ）: 2189-8596
• タイトル: プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用
• タイトルよみ: プラズマ プロセス ノ キソ ト センタン ブンヤ エノ オウヨウ
• 著者・編者: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
• シリーズタイトル: プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第27回
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• 出版年月日等: 2016.11
• 出版年（W3CDTF）: 2016
• 数量: 76p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: プラズマ--論文集 プラズマ ロンブンシュウ ( 00950982 )典拠
• NDC9版: 427.6 : 電磁気学
• NDLC: MC241
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 2016年11月18日 東京大学本郷キャンパス武田先端知ビル「武田ホール」; 奥付のタイトル: 第27回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
• 書誌注記: 文献あり
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: MC241-L9
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027723357; http://id.ndl.go.jp/bib/027723357
• 全国書誌番号: 22813544
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

• 内容細目: プラズマ技術の最前線先端半導体におけるプラズマエッチング / 根岸伸幸 著熱プラズマによる有害物質処理 / 渡辺隆行 著...