X-ray study on Si-O bonding. volume 3

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86345-384-5
• タイトル: X-ray study on Si-O bonding
• タイトルよみ: X-ray study on Si-O bonding
• 巻次・部編番号: volume 3
• 著者・編者: Haruo Ohashi [著]
• 著者標目: 大橋, 晴夫 オオハシ, ハルオ ( 00924964 )典拠
• 出版事項: [出版地不明] : Haruo Ohashi
• 出版年月日等: 2018
• 出版年（W3CDTF）: 2018
• 数量: 121p
• 大きさ: 27cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: MC145
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 4500円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: MC145-B52
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029030027; http://id.ndl.go.jp/bib/029030027
• 全国書誌番号: 23069460
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111