Extreme ultraviolet (EUV) lithography XI : 24-27 February 2020 : San Jose, California, United States : Feb 2020, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 11323)

Extreme ultraviolet (EUV) lithography XI : 24-27 February 2020 : San Jose, California, United States : Feb 2020, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 11323)

国立国会図書館請求記号: M17-21-155
国立国会図書館書誌ID: 030624422

資料種別: 図書

著者: -

出版者: SPIE

出版年: [2020]

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 volume (various pagings) ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9781510634138
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Extreme ultraviolet (EUV) lithography XI : 24-27 February 2020 : San Jose, California, United States : Feb 2020, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 11323
出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
出版年月日等: [2020]
出版年（W3CDTF）: 2020
数量: 1 volume (various pagings)
大きさ: 28 cm.
並列タイトル等: Extreme ultraviolet (EUV) lithography 11 : 24-27 February 2020 : San Jose, California, United States
Extreme ultraviolet (EUV) lithography XI : at SPIE advanced lithography : 24-27 February 2020 : San Jose, California, United States
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
表現種別: text
機器種別: unmediated
キャリア種別: volume
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-21-155
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 030624422
http://id.ndl.go.jp/bib/030624422
目録規則: RDA
整理区分コード: 215