本文へ移動
図書

半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術

図書を表すアイコン

半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術

国立国会図書館請求記号
ND371-R2
国立国会図書館書誌ID
033220804
資料種別
図書
著者
-
出版者
R&D支援センター
出版年
2022.10
資料形態
ページ数・大きさ等
252 p ; 26 cm
NDC
549.8
すべて見る

書店で探す

目次

提供元:国立国会図書館ヘルプページへのリンク
  • 目次

  • 第1章 半導体の製造プロセスと市場動向/ 13

  • 第1節 半導体製造プロセスの概要とエッチングの位置づけ/ 13

    礒部晶

  • 1 半導体の製造プロセス/ 13

  • 2 エッチングの役割と要求性能の変遷/ 14

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

関東

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
ISBN
978-4-905507-61-1
タイトルよみ
ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル ウェット / ドライ エッチング ギジュツ
出版年月日等
2022.10
出版年(W3CDTF)
2022
数量
252 p
大きさ
26 cm
出版地(国名コード)
JP