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薄膜工学 第4版

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薄膜工学

第4版

国立国会図書館請求記号
ND371-R18
国立国会図書館書誌ID
033594938
資料種別
図書
著者
日本学術振興会R025先進薄膜界面機能創成委員会 編集企画ほか
出版者
丸善出版
出版年
2024.7
資料形態
ページ数・大きさ等
310p ; 21cm
NDC
549.8
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資料詳細

要約等:

薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた入門書。学部学生、大学院生、若手技術者に広く使用されてきた標準的解説書の改訂版。(提供元: 出版情報登録センター(JPRO))

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目次

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  • 1 薄膜工学の基礎/1.1 薄膜の歴史/1.2 薄膜と工学/1.3 薄膜形成技術/1.4 薄膜の応用/2 薄膜作製法/2.1 真空蒸着・MBE法/2.2 スパッタリング/2.3 化学気相成長/2.4 印刷法/3 薄膜評価法/3.1 膜厚・形状評価/3.2 結晶構造評価/3.3 組成・状態分析/3.4 力学的性質の評価/4 薄膜の機能と応用/4.1 半導体薄膜(シリコン系)/4.2 半導体薄膜(化合物)/4.3 半導体薄膜(ワイドバンドギャップ材料)/4.4 薄膜の光学的性質/4.5 誘電体薄膜/4.6 磁性薄膜/4.7 有機薄膜/4.8 ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜/4.9 2次元材料薄膜(グラフェン,MX2など)/4.10 薄膜の化学的性質 /

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書誌情報

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デジタル

資料種別
図書
ISBN
978-4-621-30978-0
タイトル
タイトルよみ
ハクマク コウガク
著者・編者
日本学術振興会R025先進薄膜界面機能創成委員会 編集企画
田畑仁, 吉田貞史, 近藤高志 編著
第4版
著者標目
編者 : 日本学術振興会 ニホン ガクジュツ シンコウカイ ( 00257279 )典拠
編者 : 田畑, 仁, 表面化学 タバタ, ヒトシ, ヒョウメン カガク ( 001342600 )典拠
編者 : 吉田, 貞史 ヨシダ, サダフミ ( 00200038 )典拠
編者 : 近藤, 高志 コンドウ, タカシ ( 01233465 )典拠
出版年月日等
2024.7
出版年(W3CDTF)
2024