薄膜工学

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-621-30978-0
• タイトル: 薄膜工学
• タイトルよみ: ハクマク コウガク
• 著者・編者: 日本学術振興会R025先進薄膜界面機能創成委員会 編集企画; 田畑仁, 吉田貞史, 近藤高志 編著
• 版: 第4版
• 著者標目: 編者 ： 日本学術振興会 ニホン ガクジュツ シンコウカイ ( 00257279 )典拠; 編者 ： 田畑, 仁, 表面化学 タバタ, ヒトシ, ヒョウメン カガク ( 001342600 )典拠; 編者 ： 吉田, 貞史 ヨシダ, サダフミ ( 00200038 )典拠; 編者 ： 近藤, 高志 コンドウ, タカシ ( 01233465 )典拠
• 出版事項: 東京 : 丸善出版 (出版)
• 出版年月日等: 2024.7
• 出版年（W3CDTF）: 2024
• 数量: 310p
• 大きさ: 21cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: 薄膜 ハクマク ( 00562857 )典拠
• NDC10版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 索引あり
• 入手条件・定価: 4200円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-R18
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033594938; http://id.ndl.go.jp/bib/033594938
• 全国書誌番号: 24009483
• トーハンMARC番号: 34632168
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: 薄膜の作製・評価・性質を系統的にまとめた入門書。学部学生、大学院生、若手技術者に広く使用されてきた標準的解説書の改訂版。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

１　薄膜工学の基礎/１．１　薄膜の歴史/１．２　薄膜と工学/１．３　薄膜形成技術/１．４　薄膜の応用/２　薄膜作製法/２．１　真空蒸着・ＭＢＥ法/２．２　スパッタリング/２．３　化学気相成長/２．４　印刷法/３　薄膜評価法/３．１　膜厚・形状評価/３．２　結晶構造評価/３．３　組成・状態分析/３．４　力学的性質の評価/４　薄膜の機能と応用/４．１　半導体薄膜（シリコン系）/４．２　半導体薄膜（化合物）/４．３　半導体薄膜（ワイドバンドギャップ材料）/４．４　薄膜の光学的性質/４．５　誘電体薄膜/４．６　磁性薄膜/４．７　有機薄膜/４．８　ハロゲン化金属ペロブスカイト薄膜/４．９　２次元材料薄膜（グラフェン，MX2など）/４．１０　薄膜の化学的性質 /