最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 = Advanced Technologies for Functional Resist Materials and Process Optimization

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-7813-1774-8
• タイトル: 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
• タイトルよみ: サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
• 著者・編者: 河合晃 監修
• 版: 普及版
• シリーズタイトル: TECHNICAL LIBRARY. エレクトロニクスシリーズ
• 著者標目: 監修者 ： 河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )典拠
• 出版事項: 東京 : シーエムシー出版 (出版)
• 出版年月日等: 2024.8
• 出版年（W3CDTF）: 2024
• 数量: 320p
• 大きさ: 26cm
• 並列タイトル等: Advanced Technologies for Functional Resist Materials and Process Optimization
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: 感光性樹脂 カンコウセイジュシ ( 00576718 )典拠; リソグラフィー リソグラフィー ( 00576369 )典拠
• NDC10版: 578.4 : 高分子化学工業
• NDLC: PA441
• 対象利用者: 一般
• 入手条件・定価: 4800円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: PA441-R12
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033627827; http://id.ndl.go.jp/bib/033627827
• 全国書誌番号: 24019644
• トーハンMARC番号: 34639210
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説した1冊。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

【第I編　総論】

第1章　リソグラフィープロセス概論

1　はじめに

2　リソグラフィープロセス

3　3層レジストプロセス