半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86798-156-6
• タイトル: 半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング
• 著者・編者: 技術情報協会 企画編集
• 著者標目: 編者 ： 技術情報協会 ギジュツ ジョウホウ キョウカイ ( 00893204 )典拠
• 出版事項: 東京 : 技術情報協会 (出版)
• 出版年月日等: 2026.6
• 出版年（W3CDTF）: 2026
• 数量: 395 p
• 大きさ: 31 cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )典拠
• NDC10版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 88000円 (税込)
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 034793296; http://id.ndl.go.jp/bib/034793296
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: -可視化・異常検知・高精度プロセス最適化-◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには？◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解！◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説！（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

第1章　プラズマの基礎、発生装置の概要と生成・制御技術

第2章　真空環境の設計技術

第3章　プラズマの計測技術、プロセス評価・解析技術

第4章　プラズマプロセスにおけるモニタリング、予知保全技術

第5章　プラズマを利用した成膜技術とプロセスの低温化、分析技術