Charge Trapping Characteristics of MAHOS Capacitor Structures with High-k Dielectric Materials as Charge Trapping Layers

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Charge Trapping Characteristics of MAHOS Capacitor Structures with High-k Dielectric Materials as Charge Trapping Layers
• 著者・編者: Rifai, Abdulloh
• 著者標目: Rifai, Abdulloh
• 出版年月日等: 2015-12
• 出版年（W3CDTF）: 2015-12
• 授与機関名: 東京工業大学
• 授与年月日: 2015-12-31
• 授与年月日（W3CDTF）: 2015-12-31
• 報告番号: 甲第10027号
• 学位: 博士（工学）
• 博論授与番号: 甲第10027号
• 本文の言語コード: eng
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: identifier:oai:t2r2.star.titech.ac.jp:50311391
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10121669; https://dl.ndl.go.jp/pid/10121669
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 収集根拠: 博士論文（自動収集）
• 受理日（W3CDTF）: 2016-07-07T04:28:02+09:00
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象外
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 掲載誌（URI）: http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100708584
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

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2021-05-17 再収集