低コスト・高性能の半導体デバイス製造に貢献する成膜・アニール用縦型装置

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10227114

資料種別: 記事

著者: 国井泰夫ほか

出版者: 日立評論社

出版年: 2011-02-01

資料形態: デジタル

掲載誌名: 日立評論 93(2)

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: 低コスト・高性能の半導体デバイス製造に貢献する成膜・アニール用縦型装置
著者・編者: 国井泰夫
中嶋定夫
宮博信
出版事項: 日本 : 日立評論社
出版年月日等: 2011-02-01
出版年（W3CDTF）: 2011-02-01
並列タイトル等: Vertical furnaces for thin film deposition and annealing contributing to low-cost, high-performance semiconductor device manufacturing
タイトル（掲載誌）: 日立評論
巻号年月日等（掲載誌）: 93(2)
掲載巻: 93(2)
本文の言語コード: jpn
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10227114
https://dl.ndl.go.jp/pid/10227114
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2016-12-15T23:12:21+09:00
保存日（W3CDTF）: 2011-05-29
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1715810/www.hitachihyoron.com/2011/02/index.html
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10227110
https://dl.ndl.go.jp/pid/10227110
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp