29pA26P 炭素再付着層の化学スパッタリングに関する研究(プラズマ壁相互作用・材料/電源・マグネット)

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10460433

資料種別: 記事

著者: 谷口,正樹ほか

出版者: プラズマ・核融合学会

出版年: 2000-11-20

資料形態: デジタル

掲載誌名: プラズマ・核融合学会年会予稿集 (17)

掲載ページ: p.172

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資料に関する注記

一般注記：: 著者所属: 原研那珂研究所レポート・講演番号: 29pA26P

書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: 29pA26P 炭素再付着層の化学スパッタリングに関する研究(プラズマ壁相互作用・材料/電源・マグネット)
著者・編者: 谷口,正樹
正木,圭
中村,和幸
江里,幸一郎
佐藤,和義
宮,直之
秋場,真人
出版事項: 日本 : プラズマ・核融合学会
出版年月日等: 2000-11-20
出版年（W3CDTF）: 2000-11-20
並列タイトル等: 29pA26P Study on the chemical sputtering behaviors of carbon redeposition layer
タイトル（掲載誌）: プラズマ・核融合学会年会予稿集
巻号年月日等（掲載誌）: (17)
掲載巻: (17)
掲載ページ: 172
本文の言語コード: JPN
一般注記: 著者所属: 原研那珂研究所
レポート・講演番号: 29pA26P
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10460433
https://dl.ndl.go.jp/pid/10460433
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
収集根拠: NII-ELS
公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-23
受理日（W3CDTF）: 2017-08-15
保存日（W3CDTF）: 2017-08-15
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10389024
https://dl.ndl.go.jp/pid/10389024
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp