Characterization of the chemical bonding at the interfaces of SiO₂-related materials using microscopic infrared spectroscopy and attenuated total reflection

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Characterization of the chemical bonding at the interfaces of SiO₂-related materials using microscopic infrared spectroscopy and attenuated total reflection
• 著者・編者: 関, 洋文; Hirofumi, Seki
• 出版年月日等: 2017-03-03
• 出版年（W3CDTF）: 2017-03-03
• 授与機関名: 関西学院大学
• 授与年月日: 2017-03-03
• 授与年月日（W3CDTF）: 2017-03-03
• 報告番号: 乙第378号
• 学位: 博士 (工学)
• 博論授与番号: 乙第378号
• 本文の言語コード: eng
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11063855; https://dl.ndl.go.jp/pid/11063855
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 収集根拠: 博士論文（自動収集）
• 受理日（W3CDTF）: 2018-04-03T03:53:09+09:00
• 作成日（W3CDTF）: 2018-03-13
• 記録形式（IMT）: PDF
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象外
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 掲載誌（URI）: http://hdl.handle.net/10236/00026685
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

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2018-08-04 再収集