204 Ni-Sn-Ti 合金ろうによる窒化ケイ素の接合性

• 資料種別: 記事
• タイトル: 204 Ni-Sn-Ti 合金ろうによる窒化ケイ素の接合性
• 著者・編者: 奈賀,正明; 高瀬,秀樹
• 出版事項: 日本 : 溶接学会
• 出版年月日等: 2003-03-24
• 出版年（W3CDTF）: 2003-03-24
• 並列タイトル等: Joiningability of Si_3N_4 Against Ni-Sn-Ti Filler metals
• タイトル（掲載誌）: 溶接学会全国大会講演概要
• 巻号年月日等（掲載誌）: (72)
• 掲載巻: (72)
• 掲載ページ: 64-65
• 本文の言語コード: JPN
• 著者別名: Naka,Masaaki; Takase,Hideki
• 件名標目: 窒化ケイ素; ろう付け; 濡れ性; Ni合金; Silicon Nitride; Brazing; Wettability; Nickel Alloy
• 一般注記: 著者所属: 大阪大学接合科学研究所; 著者所属: 大阪大学大学院
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11147235; https://dl.ndl.go.jp/pid/11147235
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2018-09-12
• 受理日（W3CDTF）: 2018-09-05
• 保存日（W3CDTF）: 2018-09-05
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11151286; https://dl.ndl.go.jp/pid/11151286
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp