博士論文

シリコン窒化膜を用いた高性能不揮発性メモリに向けた第一原理計算による設計指針の提案

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シリコン窒化膜を用いた高性能不揮発性メモリに向けた第一原理計算による設計指針の提案

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11300576
資料種別
博士論文
著者
山口, 慶太
出版者
-
出版年
2019-03-25
資料形態
デジタル
ページ数・大きさ等
-
授与大学名・学位
名古屋大学,博士(工学)
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目次

  • 2023-12-09 再収集

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書誌情報

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デジタル

資料種別
博士論文
著者・編者
山口, 慶太
著者標目
出版年月日等
2019-03-25
出版年(W3CDTF)
2019-03-25
並列タイトル等
Design guidelines based on first principle calculations for high performance nonvolatile memories using silicon nitride film
授与機関名
名古屋大学
授与年月日
2019-03-25
授与年月日(W3CDTF)
2019-03-25