ミストCVD法による準安定相強誘電体酸化物の薄膜形成技術に関する研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: ミストCVD法による準安定相強誘電体酸化物の薄膜形成技術に関する研究
• 著者・編者: 田原, 大祐
• 著者標目: 田原, 大祐
• 出版年月日等: 2020-03-25
• 出版年（W3CDTF）: 2020-03-25
• 並列タイトル等: Design, growth and characterization of metastable phase ferroelectric oxide thin films by mist chemical vapor deposition
• 授与機関名: 京都工芸繊維大学
• 授与年月日: 2020-03-25
• 授与年月日（W3CDTF）: 2020-03-25
• 報告番号: 甲第957号
• 学位: 博士（工学）
• 本文の言語コード: jpn
• 著者別名: TAHARA, Daisuke
• 件名標目: 酸化ガリウム; Ga2O3; 準安定相; エピタキシャル成長; 薄膜; ミストCVD; 強誘電体; 結晶成長; 酸化物; 酸化ハフニウム; HfO2; 混晶化; バンドギャップエンジニアリング
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 出版タイプ： VoR
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/12263431; https://dl.ndl.go.jp/pid/12263431
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 収集根拠: 博士論文（自動収集）
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象外
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 掲載誌（URI）: http://hdl.handle.net/10212/2567
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• 要約等: 近年、情報化社会の進展に欠かせないキーデバイスである半導体メモリやパワーデバイスにおける電力損失の低減による半導体デバイスの省エネ化に対する期待が高まっている。本研究では、超省エネ社会の実現と次世代通信システムに適用するための低消費電力・高周波・大電流制御が可能な次世代のヘテロ接合パワーデバイスを実...