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半導体装置製造用の電子サイクロトロン共鳴を用いたエッチング処理室におけるマイクロ波伝搬と均一プラズマ生成に関する研究
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国立国会図書館デジタルコレクション
デジタルデータあり（東京農工大学）
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- タイトルよみ
- ハンドウタイソウチセイゾウヨウノデンシサイクロトロンキョウメイヲモチイタエッチングショリシツニオケルマイクロハデンパントキンイツプラズマセイセイニカンスルケンキュウ
- 著者・編者
- 田村, 仁
- 著者標目
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2022-03-25
- 出版年（W3CDTF）
- 2022-03-25
- 並列タイトル等
- Study on microwave propagation and uniform plasma generation in an electron cyclotron etching reactor for semiconductor manufacturing
- 授与機関名
- 東京農工大学