レーザアブレーションによる次世代メモリ用酸化物薄膜の作製

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: レーザアブレーションによる次世代メモリ用酸化物薄膜の作製
• タイトルよみ: レーザ アブレーション ニ ヨル ジセダイ メモリヨウ サンカブツ ハクマク ノ サクセイ
• 著者・編者: 木藤英雄 [著]
• 著者標目: 木藤, 英雄 キドウ, ヒデオ
• 並列タイトル等: Preparation of oxide thin films by laser ablation for next generation memory devices
• 授与機関名: 金沢大学
• 授与年月日: 平成5年9月30日
• 授与年月日（W3CDTF）: 1993
• 報告番号: 乙第1303号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-94-U99
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000276160; http://id.ndl.go.jp/bib/000000276160
• 整理区分コード: 213

• DOI: 10.11501/3078279; https://doi.org/10.11501/3078279
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/3078279; https://dl.ndl.go.jp/pid/3078279
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（障害者向け資料：レベル2）: プレーンテキスト
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 製作者: 国立国会図書館
• 受理日（W3CDTF）: 2011-12-05T13:37:13+09:00
• 記録形式（IMT）: image/jp2
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 請求記号: UT51-94-U99
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

目次

目次

第1章 序論

1.1 本研究の背景

1.2 本研究の目的

1.3 本研究の概要