Study of growth modes and atomic depth distribution analysis of metals on Si(111) during epitaxial growth by total reflection angle X-ray spectroscopy
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書誌情報
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- 資料種別
- 博士論文
- 著者・編者
- 山中俊朗 [著]
- 著者標目
- 山中, 俊朗 ヤマナカ, トシロウ
- 並列タイトル等
- 全反射角X線分光によるSi(111)上の金属成長過程における成長モード元素の深さ分布の研究 ゼンハンシャカク Xセン ブンコウ ニ ヨル Si(111)ジョウ ノ キンゾク セイチョウ カテイ ニ オケル セイチョウ モード ゲンソ ノ フカサ ブンプ ノ ケンキュウ
- 授与機関名
- 東京大学
- 授与年月日
- 平成5年3月29日
- 授与年月日（W3CDTF）
- 1993
- 報告番号
- 甲第9865号
- 学位
- 博士 (理学)