Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High-Density Silane and Hydrogen Plasma

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Studies on Microcrystalline Silicon Film Growth in High-Density Silane and Hydrogen Plasma
• 著者・編者: Kazuya Murata [著]
• 著者標目: 村田, 和哉 ムラタ, カズヤ
• 出版事項: [Kazuya Murata]
• 出版年月日等: 2001
• 出版年（W3CDTF）: 2001
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 高密度シラン・水素プラズマによる微結晶シリコン薄膜の成長に関する研究 コウミツド シラン スイソ プラズマ ニ ヨル ビケッショウ シリコン ハクマク ノ セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成13年3月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2001
• 報告番号: 甲第5085号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2001-D242
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000000398620; http://id.ndl.go.jp/bib/000000398620
• 整理区分コード: 213

目次

CONTENTS

Chapter 1 Introduction

1.1 Application of polycrystalline and microcrystalline silicon films to microelectric devices

1.2 Previous studies on formation processes and formation models of polycrystalline and microcrystalline silicon films

1.3 Purpose and composition of this thesis