シリコン表面熱酸化初期過程の反応速度論
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国立国会図書館デジタルコレクション
書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 末光眞希
- 出版事項
- 出版年月日等
- 2002-02
- 出版年（W3CDTF）
- 2002-02
- 並列タイトル等
- Reaction kinetics during initial stage of thermal oxidation on Si(100) surface
- タイトル（掲載誌）
- 表面科学 : 日本表面科学会誌
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 23(2)
- 掲載巻
- 23(2)