SI DEPOSITION RATES IN A TWO-DIMENSIONAL CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) REACTOR AND COMPARISONS WITH MODEL CALCULATIONS (SAND ; SAND-89-2090)

SI DEPOSITION RATES IN A TWO-DIMENSIONAL CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) REACTOR AND COMPARISONS WITH MODEL CALCULATIONS

(SAND ; SAND-89-2090)

著者: BREILAND, W.G.//COLTRIN, M.E. (SANDIA NATIONAL LABS., ALBUQUERQUE, NM (USA))

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 図書
タイトル: SI DEPOSITION RATES IN A TWO-DIMENSIONAL CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) REACTOR AND COMPARISONS WITH MODEL CALCULATIONS
著者・編者: BREILAND, W.G.//COLTRIN, M.E. (SANDIA NATIONAL LABS., ALBUQUERQUE, NM (USA))
シリーズタイトル: SAND ; SAND-89-2090
著者標目: BREILAND, W.G.
COLTRIN, M.E.
出版事項: Sandia National Laboratories(Sandia National Laboratories)
出版年月日等: 1989.
出版年（W3CDTF）: 1989
数量: 46
出版地（国名コード）: us
本文の言語コード: eng
対象利用者: 一般
連携機関・データベース: 日本原子力研究開発機構 : 日本原子力研究開発機構所蔵目録データベース
https://library-documents.jaea.go.jp/opac/opac_search/