Development of high performance Schottky barrier diode and its application to plasma diagnostics (NIFS ; NIFS-TECH-3)

Development of high performance Schottky barrier diode and its application to plasma diagnostics

(NIFS ; NIFS-TECH-3)

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 図書
タイトル: Development of high performance Schottky barrier diode and its application to plasma diagnostics
著者・編者: Fujita, J., Kawahata, K., Okajima, S. [et al.]
シリーズタイトル: NIFS ; NIFS-TECH-3
著者標目: Fujita, J.
Kawahata, K.
Okajima, S.
Mase, A.
Suzuki, T.
Kuwano, R.
Mizuno, K.
Nozokido, T.
Chang, J.J.
Mann, C.M.
出版事項: Nagoya (Japan) : National Inst. for Fusion Science
出版年月日等: 1993.10.
出版年（W3CDTF）: 1993
数量: 92p
出版地（国名コード）: ja
本文の言語コード: eng
対象利用者: 一般
連携機関・データベース: 日本原子力研究開発機構 : 日本原子力研究開発機構所蔵目録データベース
https://library-documents.jaea.go.jp/opac/opac_search/