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界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

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界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

資料種別
図書
著者
堀田 將
出版者
[堀田將]
出版年
1999.4
資料形態
ページ数・大きさ等
30cm
NDC
-
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資料種別
図書
タイトルよみ
カイメン セイギョ ニヨル シリコン キバンジョウ エノ キョウ ユウデンタイ ハクマク ヘテロエピタキシャル セイチョウ
出版事項
出版年月日等
1999.4
出版年(W3CDTF)
1999
大きさ
30cm
並列タイトル等
平成9年度〜10年度科学研究費補助金(基礎研究(B))研究成果報告書
出版地(国名コード)
ja