2003 8th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage, April 24-25, 2003, Corbeil-Essonnes, France

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資料種別: 図書
ISBN: 0780377478
タイトル: 2003 8th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage, April 24-25, 2003, Corbeil-Essonnes, France
著者・編者: Koji Eriguchi, S. Krishnan, and Terence Hook, editors
著者標目: International Symposium on Plasma Process-Induced Damage
https://ci.nii.ac.jp/author/DA13150844
Hook, Terence
Eriguchi, Koji
Krishnan, S.
出版事項: IEEE Operations Center
出版年月日等: c2003
出版年（W3CDTF）: 2003
大きさ: 28 cm
並列タイトル等: P2ID
03TH8669
出版地（国名コード）: us
本文の言語コード: en
件名標目: Semiconductor wafers -- Defects -- Congresses
Semiconductors -- Effect of radiation on -- Congresses
Plasma etching -- Congresses
対象利用者: 一般
一般注記: "P2ID"-- on cover
"IEEE Catalog Number 03TH8669" -- T.p. verso
Includes bibliographical references
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA66598920#entity
https://lccn.loc.gov/2002116918
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA66598920 : BA66598920
LC control number: 2002116918
https://lccn.loc.gov/2002116918