Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage

資料に関する注記

一般注記：: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2012Kind of academic degree: 博士(工学)Date degree granted: 2012-03-26...

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資料種別: 図書
タイトル: Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage
著者・編者: Hiroshi Yamamoto
著者標目: 山本, 洋ヤマモト, ヒロシ
出版事項: [s.n.]
出版年月日等: [2012]
出版年（W3CDTF）: 2012
大きさ: 30 cm
並列タイトル等: 低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマエッチングプロセスに関する研究
本文の言語コード: en
対象利用者: 一般
一般注記: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2012
Kind of academic degree: 博士(工学)
Date degree granted: 2012-03-26
Report number: 甲第9602号
Diploma number: 工博第2517号
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB12196046#entity
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB12196046 : BB12196046