Crystallographic and dielectric properties of ZrO[2] films epitaxially grown by limited reaction sputtering

資料に関する注記

書店で探す

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

CiNii Research
検索サービス
紙
連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。
この本の所蔵を確認

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

資料種別: 図書
タイトル: Crystallographic and dielectric properties of ZrO[2] films epitaxially grown by limited reaction sputtering
著者・編者: 周英[著]
著者標目: 周, 英ツオウ, イン
出版事項: [周英]
出版年月日等: [2009.7]
出版年（W3CDTF）: 2009
大きさ: 30cm
並列タイトル等: 制限反応スパッタ法によるZrO[2]薄膜のエピタキシャル成長とその結晶学的・誘電的特性
出版地（国名コード）: ja
本文の言語コード: en
対象利用者: 一般
一般注記: 博士論文(金沢大学, 2009, 甲第1134号)
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB09166477#entity
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB09166477 : BB09166477