Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing

• 資料種別: 図書
• ISBN: 1558992138
• タイトル: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing
• 著者・編者: editors, Gregg S. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi
• 著者標目: Higashi, Gregg S.; https://ci.nii.ac.jp/author/DA02894271; Irene, Eugene A.; https://ci.nii.ac.jp/author/DA08380903; 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ; https://ci.nii.ac.jp/author/DA0838100X; Materials Research Society. Meeting (1993 : San Francisco, Calif.). Symposium Y
• 出版事項: Materials Research Society
• 出版年月日等: 1993
• 出版年（W3CDTF）: 1993
• 大きさ: 24 cm
• 出版地（国名コード）: us
• 本文の言語コード: en
• 件名標目: Semiconductors -- Design and construction -- Congresses; Surface preparation -- Congresses; Semiconductors -- Cleaning -- Congresses; Surface chemistry -- Congresses
• LCC: TK7871.85
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Symposium Y held during the 1993 Spring Meeting of the Materials Research Society, in San Francisco from April 13-15, 1993; Includes bibliographical references and index
• 関連情報: Materials Research Society symposium proceedings; https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282268858574848
• 関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA22970911#entity; https://lccn.loc.gov/93028784
• 掲載誌: Materials Research Society symposium proceedings; https://cir.nii.ac.jp/crid/1130282268858574848
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
• 提供元機関・データベース: CiNii Books; https://ci.nii.ac.jp/books
• NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BA22970911 : BA22970911
• LC control number: 93028784; https://lccn.loc.gov/93028784