Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation

資料に関する注記

一般注記：: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2013Kind of academic degree: 博士(工学)Date degree granted: 2013-03-25...

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資料種別: 図書
タイトル: Studies on reaction kinetics of photoresist for plasma etching processes by using reactive beam irradiation
著者・編者: Takeuchi Takuya
著者標目: 竹内, 拓也タケウチ, タクヤ
出版事項: [s.n.]
出版年月日等: [2013]
出版年（W3CDTF）: 2013
大きさ: 30 cm
並列タイトル等: 反応性ビーム照射を用いたプラズマエッチングプロセス中のフォトレジストの反応過程に関する研究
本文の言語コード: en
対象利用者: 一般
一般注記: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2013
Kind of academic degree: 博士(工学)
Date degree granted: 2013-03-25
Report number: 甲第10161号
Diploma number: 工博第2619号
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB12551862#entity
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB12551862 : BB12551862