Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures

資料に関する注記

一般注記：: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2013Kind of academic degree: 博士(工学)Date degree granted: 2013-03-25...

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資料種別: 図書
タイトル: Control of interfacial structures and electrical properties of metal/high-permittivity-rare-earth-oxide/Ge gate stack structures
著者・編者: Kato Kimihiko
著者標目: 加藤, 公彦カトウ, キミヒコ
出版事項: [s.n.]
出版年月日等: [2013]
出版年（W3CDTF）: 2013
大きさ: 30 cm
並列タイトル等: 金属/高誘電率希土類酸化物/Geゲートスタック構造の界面構造および電子物性制御
本文の言語コード: en
対象利用者: 一般
一般注記: Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2013
Kind of academic degree: 博士(工学)
Date degree granted: 2013-03-25
Report number: 甲第10172号
Diploma number: 工博第2630号
関連情報（URI）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB1255558X#entity
連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
提供元機関・データベース: CiNii Books
https://ci.nii.ac.jp/books
NACSIS書誌ID（NCID）: https://ci.nii.ac.jp/ncid/BB1255558X : BB1255558X