Two-dimensional mapping of plasma parameters using probes in an electron cyclotron resonance etching device

• 資料種別: 記事
• タイトル: Two-dimensional mapping of plasma parameters using probes in an electron cyclotron resonance etching device
• 著者標目: J. A. Meyer; J. S. Hamers; G.-H. Kim; N. Hershkowitz
• 出版年月日等: 1993-07-01
• 出版年（W3CDTF）: 1993-07-01
• タイトル（掲載誌）: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
• 巻号年月日等（掲載誌）: 11 4
• 掲載巻: 11
• 掲載号: 4
• 掲載ページ: 1317-1322
• 掲載年月日（W3CDTF）: 1993-07-01
• ISSN（掲載誌）: 07342101
• 出版事項（掲載誌）: American Vacuum Society
• 件名標目: Surfaces, Coatings and Films; Surfaces and Interfaces; Condensed Matter Physics
• 対象利用者: 一般
• DOI: 10.1116/1.578546
• 作成日（W3CDTF）: 2002-07-27
• 関連情報（URI）: https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/11/4/1317/7370876/1317_1_online.pdf
• 参照: Two-Dimensional Plasma Mapping Using String Probes.; https://cir.nii.ac.jp/crid/1390282681226861056
• 連携機関・データベース: 国立情報学研究所 : CiNii Research
• 提供元機関・データベース: Crossref; https://www.crossref.org

• 要約等: <jats:p>Emissive probe measurements of plasma potentials outside the source aperture of an electron cyclotron resonance etching device have shown larg...