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Two-dimensional mapping of plasma parameters using probes in an electron cyclotron resonance etching device

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Two-dimensional mapping of plasma parameters using probes in an electron cyclotron resonance etching device

資料種別
記事
著者
J. A. Meyerほか
出版者
American Vacuum Society
出版年
1993-07-01
資料形態
デジタル
掲載誌名
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 11 4
掲載ページ
p.1317-1322
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資料詳細

要約等:

<jats:p>Emissive probe measurements of plasma potentials outside the source aperture of an electron cyclotron resonance etching device have shown larg...

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デジタル

資料種別
記事
出版年月日等
1993-07-01
出版年(W3CDTF)
1993-07-01
タイトル(掲載誌)
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
巻号年月日等(掲載誌)
11 4
掲載巻
11
掲載号
4
掲載ページ
1317-1322