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Copper hydride formation in the electroless copper plating process: in situ X-ray diffraction evidence and electrochemical study

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Copper hydride formation in the electroless copper plating process: in situ X-ray diffraction evidence and electrochemical study

資料種別
記事
著者
A. Vaškelisほか
出版者
Elsevier BV
出版年
1998-04
資料形態
デジタル
掲載誌名
Electrochimica Acta 43 9
掲載ページ
p.1061-1066
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デジタル

資料種別
記事
出版年月日等
1998-04
出版年(W3CDTF)
1998-04
タイトル(掲載誌)
Electrochimica Acta
巻号年月日等(掲載誌)
43 9
掲載巻
43
掲載号
9
掲載ページ
1061-1066