300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス (レーザ・量子エレクトロニクス)

Icons representing 記事

300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス

(レーザ・量子エレクトロニクス)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
024678683
Material type
記事
Author
北 智洋ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2013-06-21
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(100):2013.6.21
Publication Page
p.1-5
View All

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
記事
Author/Editor
北 智洋
田主 裕一朗
奈良 匡樹 他
Alternative Title
Silicon photonics devices on 300 mm wafer fabricated by using ArF immersion lithography
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
113(100):2013.6.21
Volume
113
Issue
100