触媒反応生成高エネル...

触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み (有機エレクトロニクス)

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触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み

(有機エレクトロニクス)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
024679182
Material type
記事
Author
竹澤 和樹ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2013-06-21
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(98):2013.6.21
Publication Page
p.89-94
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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
竹澤 和樹
中村 友紀
小柳 貴寛 他
Alternative Title
ZnO film growth using high-energy H₂O generated by a catalytic reaction : Effect of low-temperature buffer layer
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
113(98):2013.6.21
Volume
113
Issue
98