抵抗変化メモリ(ReRAM)における導電性パス生成機構の検討 : 第一原理分子動力学法を用いたNiOの様々な面方位の表面状態解析 (電子ディスプレイ)

Icons representing 記事

抵抗変化メモリ(ReRAM)における導電性パス生成機構の検討 : 第一原理分子動力学法を用いたNiOの様々な面方位の表面状態解析

(電子ディスプレイ)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
026034857
Material type
記事
Author
森山 拓洋ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2014-12-12
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(359):2014.12.12
Publication Page
p.135-138
View All

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
記事
Author/Editor
森山 拓洋
山崎 隆浩
大野 隆央 他
Alternative Title
Study on Formative Mechanism of Conductive Path in Resistive Random Access Memory (ReRAM) : Analyses of Various NiO Surface States Using Ab Initio Calculations
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
114(359):2014.12.12
Volume
114
Issue
359