雑誌電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
Volume number115(279)-115(285):2015.10.29-2015.10.31
ArticleXe/H₂プラズマを...

Xe/H₂プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術 (シリコン材料・デバイス)

Icons representing 記事

Xe/H₂プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術

(シリコン材料・デバイス)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
026909043
Material type
記事
Author
諏訪 智之ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2015-10
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 115(280):2015.10.29・30
Publication Page
p.13-16
View All

Holdings of Libraries in Japan

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

List of Cooperating Institutions and Databases

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

  • CiNii Research

    Search Service
    Paper
    You can check the holdings of institutions and databases with which CiNii Research is linked at the site of CiNii Research.
    Check the holdings of this book

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
記事
Title
Xe/H₂プラズマを用いたシリコン基板表面の低温平坦化技術
Author/Editor
諏訪 智之
寺本 章伸
後藤 哲也 他
Series Title
シリコン材料・デバイス
Author Heading
諏訪 智之
寺本 章伸
後藤 哲也
Alternative Title
Ultra-Low Temperature Flattening Technique of Silicon Surface Using Xe/H₂ Plasma
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
115(280):2015.10.29・30
Volume
115
Issue
280