YAlO₃(001)基板上でのCr₂O₃薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析

• Material Type: 記事
• Title: YAlO₃(001)基板上でのCr₂O₃薄膜の成膜条件の最適化および結晶構造解析
• Author/Editor: 橋本 浩佑; 隅田 貴士; 福井 慎二郎; 平戸 剛志; 柳原 康宏; 永田 知子; 山本 寛; 岩田 展幸
• Series Title: 機構デバイス ; 材料・デバイス サマーミーティング
• Author Heading: 橋本 浩佑; 隅田 貴士; 福井 慎二郎; 平戸 剛志; 柳原 康宏; 永田 知子; 山本 寛; 岩田 展幸
• Alternative Title: Structure Analyses and Optimization of deposition condition for Cr₂O₃ thin films grown on Surface Treated YAlO₃(001) Substrates
• Periodical title: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• No. or year of volume/issue: 116(99):2016.6.17
• Volume: 116
• Issue: 99
• Pages: 19-22
• Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2016-06-17
• ISSN (Periodical Title): 0913-5685
• ISSN-L (Periodical Title): 0913-5685
• Publication (Periodical Title): 東京 : 電子情報通信学会
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: Cr₂O₃; 薄膜; YAlO₃; films
• NDLC: ZN33
• Target Audience: 一般
• Report No. (Article): EMD2016-11
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z16-940
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 027485263; http://id.ndl.go.jp/bib/027485263
• Bibliographic Record Category (NDL): 632