溶液成長法によるCuO及びCu₂O薄膜の成長と表面モフォロジー

• Material Type: 記事
• Title: 溶液成長法によるCuO及びCu₂O薄膜の成長と表面モフォロジー
• Author/Editor: 寺迫 智昭; 門田 直己; 大森 裕也; 佐伯 拓哉
• Series Title: 有機エレクトロニクス ; 材料・デバイス サマーミーティング
• Author Heading: 寺迫 智昭; 門田 直己; 大森 裕也; 佐伯 拓哉
• Alternative Title: Growth of CuO and Cu₂O Films by Chemical Bath Deposition and Their Surface Morphologies
• Periodical title: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
• No. or year of volume/issue: 116(101):2016.6.17
• Volume: 116
• Issue: 101
• Pages: 1-6
• Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2016-06-17
• ISSN (Periodical Title): 0913-5685
• ISSN-L (Periodical Title): 0913-5685
• Publication (Periodical Title): 東京 : 電子情報通信学会
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: Cuo; Cu₂O; 溶液成長法; 走査型電子顕微鏡; X線回折; 表面モフォロジー; Chemical bath deposition; Scanning electron microscope; X-ray diffraction; Surface morphology
• NDLC: ZN33
• Target Audience: 一般
• Report No. (Article): OME2016-18
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z16-940
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 027485519; http://id.ndl.go.jp/bib/027485519
• Bibliographic Record Category (NDL): 632