アルミニウム誘起層交換法によるSiGe/ガラスの低温成長 (有機エレクトロニクス)

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アルミニウム誘起層交換法によるSiGe/ガラスの低温成長

(有機エレクトロニクス)

Call No. (NDL)
Z16-940
Bibliographic ID of National Diet Library
10220867
Material type
記事
Author
黒澤 昌志ほか
Publisher
東京 : 電子情報通信学会
Publication date
2009-04-24
Material Format
Paper
Journal name
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 109(20) 2009.4.24
Publication Page
p.19~23
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Bibliographic Record

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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
黒澤 昌志
川畑 直之
佐道 泰造 他
Alternative Title
Low-temperature growth of silicon-germanium on glass by aluminum induced layer exchange
Periodical title
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue
109(20) 2009.4.24
Volume
109
Issue
20