低融点基板上に形成するトランジスタのゲート絶縁膜の高速成長法と硝酸改質法の開発 (平成20年度研究助成金受給者研究報告集)

低融点基板上に形成するトランジスタのゲート絶縁膜の高速成長法と硝酸改質法の開発

(平成20年度研究助成金受給者研究報告集)

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Material Type: 記事
Title: 低融点基板上に形成するトランジスタのゲート絶縁膜の高速成長法と硝酸改質法の開発
Author/Editor: 松本健俊
Series Title: 平成20年度研究助成金受給者研究報告集
Author Heading: 松本健俊
Periodical title: 研究助成金受給者研究報告集
No. or year of volume/issue: 27 2008年度
Volume: 27
Pages: 20～23
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2008
Publication (Periodical Title): 東京 : 日揮・実吉奨学会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: ZM1
Target Audience: 一般
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z14-1416
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 10640375
http://id.ndl.go.jp/bib/10640375
Bibliographic Record Category (NDL): 632