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次世代LSIに向けたメタルゲート電極/高誘電率ゲート絶縁膜の高信頼化技術

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次世代LSIに向けたメタルゲート電極/高誘電率ゲート絶縁膜の高信頼化技術

Call No. (NDL)
Z16-317
Bibliographic ID of National Diet Library
10786336
Material type
記事
Author
深津 茂人ほか
Publisher
東京 : 東芝技術企画部
Publication date
2010-07
Material Format
Paper
Journal name
東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作 65(7) (通号 733) 2010.7
Publication Page
p.28~32
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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
深津 茂人
平野 泉
三谷 祐一郎
Alternative Title
High-reliability technology for metal gate/high-k gate dielectrics for advanced LSIs
Periodical title
東芝レビュー = Toshiba review / 東芝ビジネスエキスパート株式会社ビジネスソリューション事業部 編集・制作
No. or year of volume/issue
65(7) (通号 733) 2010.7
Volume
65
Issue
7
Sequential issue number
733