現像時の高分子反応を利用した微細パターン形成法--反応現像画像形成に基づく感光性エンジニアリングプラスチック (特集 反応性高分子で"機能性"を差別化する!)

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現像時の高分子反応を利用した微細パターン形成法--反応現像画像形成に基づく感光性エンジニアリングプラスチック

(特集 反応性高分子で"機能性"を差別化する!)

Call No. (NDL)
Z14-1260
Bibliographic ID of National Diet Library
10809147
Material type
記事
Author
大山 俊幸
Publisher
東京 : シーエムシー出版
Publication date
2010-09
Material Format
Paper
Journal name
ファインケミカル : 調査・資料・報道・抄録 39(9) (通号 780) 2010.9
Publication Page
p.14~23
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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
大山 俊幸
Author Heading
Alternative Title
Pattern formation using polymer reactions during development process: photosensitive engineering plastics based on reaction development pattering
Periodical title
ファインケミカル : 調査・資料・報道・抄録
No. or year of volume/issue
39(9) (通号 780) 2010.9
Volume
39
Issue
9