ピコ秒分光法によるベンゾフェノンートリエチルアミン系の水素引き抜き反応 (化学における活性化の新展開-1-レーザー・プラズマ・超音波・磁場・電場などの利用<特集>)

ピコ秒分光法によるベンゾフェノンートリエチルアミン系の水素引き抜き反応

(化学における活性化の新展開-1-レーザー・プラズマ・超音波・磁場・電場などの利用<特集>)

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Material Type: 記事
Title: ピコ秒分光法によるベンゾフェノンートリエチルアミン系の水素引き抜き反応
Author/Editor: 大谷弘之他
Series Title: 化学における活性化の新展開-1-レーザー・プラズマ・超音波・磁場・電場などの利用<特集>
Author Heading: 大谷弘之
Periodical title: 日本化学会誌 : 化学と工業化学 / 日本化学会編
No. or year of volume/issue: 1984(10) 1984.10
Volume: 1984
Issue: 10
Pages: p1479～1483
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 1984-10
ISSN (Periodical Title): 0369-4577
ISSN-L (Periodical Title): 0369-4577
Publication (Periodical Title): 東京 : 日本化学会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: ZP1
Target Audience: 一般
Article Type: 記事分類: 化学・化学工業--有機化学・有機化学工業
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z17-659
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 3006945
http://id.ndl.go.jp/bib/3006945
Bibliographic Record Category (NDL): 632