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極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩

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極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩

Call No. (NDL)
Z16-223
Bibliographic ID of National Diet Library
4963888
Material type
記事
Author
黒河 明ほか
Publisher
つくば : 工業技術院電子技術総合研究所
Publication date
2000-01
Material Format
Digital
Journal name
電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編 (通号 600) 2000.01
Publication Page
p.10~12
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Digital

Material Type
記事
Author/Editor
黒河 明
一村 信吾
中村 健 他
Periodical title
電総研ニュース = ETL news / 工業技術院電子技術総合研究所 編
No. or year of volume/issue
(通号 600) 2000.01
Sequential issue number
600
Pages
10~12
Publication date of volume/issue (W3CDTF)
2000-01
ISSN (Periodical Title)
0011-846X