招待論文プラズマエッチングプロセスの課題と今後の展開--プラズマエッチング高精度化へのチャレンジ (半導体加工技術とプロセスクリーン化)

招待論文プラズマエッチングプロセスの課題と今後の展開--プラズマエッチング高精度化へのチャレンジ

(半導体加工技術とプロセスクリーン化)

Journal name: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 100(373) 2000.10.19

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Material Type: 記事
Title: 招待論文プラズマエッチングプロセスの課題と今後の展開--プラズマエッチング高精度化へのチャレンジ
Author/Editor: 寒川誠二
Series Title: 半導体加工技術とプロセスクリーン化
Author Heading: 寒川誠二
Periodical title: 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
No. or year of volume/issue: 100(373) 2000.10.19
Volume: 100
Issue: 373
Pages: 1～8
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2000-10-19
ISSN (Periodical Title): 0913-5685
ISSN-L (Periodical Title): 0913-5685
Publication (Periodical Title): 東京 : 電子情報通信学会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Subject Heading: プラズマエッチング
電子エネルギー分布
チャージアップダメージ
大口径化
Plasma Etching
Electron Energy Distribution
Charge-Build-Up-Damage
Large-Scale-Plasma Source
NDLC: ZN33
Target Audience: 一般
Report No. (Article): SDM2000-142
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z16-940
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 5567873
http://id.ndl.go.jp/bib/5567873
Bibliographic Record Category (NDL): 632