絶縁体上のシリコン層(SOI)に形成したデバイスにおけるタングステンコンタクト不良の構造解析(第42回真空に関する連合講演会プロシーディングス)

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Material Type: 記事
Title: 絶縁体上のシリコン層(SOI)に形成したデバイスにおけるタングステンコンタクト不良の構造解析
Author/Editor: 植木武美
中村信二
塩野谷寧他
Series Title: 第42回真空に関する連合講演会プロシーディングス
Author Heading: 植木武美
中村信二
塩野谷寧
Periodical title: 真空 = Journal of the Vacuum Society of Japan
No. or year of volume/issue: 45(3) 2002.3
Volume: 45
Issue: 3
Pages: 130～133
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2002-03
ISSN (Periodical Title): 0559-8516
ISSN-L (Periodical Title): 0559-8516
Publication (Periodical Title): 東京 : 日本真空協会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: ZN15
Target Audience: 一般
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z16-474
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 6144105
http://id.ndl.go.jp/bib/6144105
Bibliographic Record Category (NDL): 632