ポーラスシリコンを用いるレーザー脱離イオン化質量分析の合成高分子への応用(特集:ナノ空間と分析化学)

• Material Type: 記事
• Title: ポーラスシリコンを用いるレーザー脱離イオン化質量分析の合成高分子への応用
• Author/Editor: 奥野 昌二; 下前 幸康; 和田 芳直 他
• Series Title: 特集:ナノ空間と分析化学
• Author Heading: 奥野 昌二; 下前 幸康; 和田 芳直
• Periodical title: 分析化学 / 日本分析化学会 編
• No. or year of volume/issue: 54(6) 2005.6
• Volume: 54
• Issue: 6
• Pages: 439～447
• Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2005-06
• ISSN (Periodical Title): 0525-1931
• ISSN-L (Periodical Title): 0525-1931
• Publication (Periodical Title): 東京 : 日本分析化学会
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: desorption ionization on silicon; laser desorption mass spectrometry; synthetic polymer; redox
• NDLC: ZP4
• Target Audience: 一般
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z17-9
• Related Material (URI): http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10896124
• Related Material (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10896124; http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10896124
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 7398900; http://id.ndl.go.jp/bib/7398900
• Bibliographic Record Category (NDL): 632

• Summary, etc.: マトリックス支援レーザー脱離イオン化（matrix-assisted laser desorption ionization，MALDI）は，低分子から高分子に至る様々な化合物のイオン化に有効である．しかしながら，マトリックス関連イオンが強く検出されるためにマススペクトルが複雑になり，目的イオンの解...