磁場中RFプラズマCVDによるカーボンナノチューブ配向成長(小特集 プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題)

• Material Type: 記事
• Title: 磁場中RFプラズマCVDによるカーボンナノチューブ配向成長
• Author/Editor: 畠山 力三; 加藤 俊顕
• Series Title: 小特集 プラズマプロセスによるカーボンナノチューブ配向成長の現状と課題
• Author Heading: 畠山 力三; 加藤 俊顕
• Periodical title: プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
• No. or year of volume/issue: 81(9) 2005.9
• Volume: 81
• Issue: 9
• Pages: 653～659
• Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2005-09
• ISSN (Periodical Title): 0918-7928
• ISSN-L (Periodical Title): 0918-7928
• Publication (Periodical Title): 名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: plasma enhanced chemical vapor deposition; freestanding single-walled carbon nanotubes; magnetized plasma sheath
• NDLC: ZM35
• Target Audience: 一般
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Z15-8
• Related Material (URI): http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10456022
• Related Material (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10456022; http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10456022
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 7677987; http://id.ndl.go.jp/bib/7677987
• Bibliographic Record Category (NDL): 632

• Summary, etc.: The plasma-enhanced chemical vapor deposition method, which has such benefits as low synthesis temperature and vertical alignment control, was success...