再録 反応性スパッタ...

再録 反応性スパッタリング法により形成したAl-Cr-N系皮膜の特性におよぼすN2ガス分圧の影響

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再録 反応性スパッタリング法により形成したAl-Cr-N系皮膜の特性におよぼすN2ガス分圧の影響

Call No. (NDL)
Z14-1552
Bibliographic ID of National Diet Library
8900381
Material type
記事
Author
井手 幸夫ほか
Publisher
宇部 : 山口県産業技術センター
Publication date
2006-07
Material Format
Paper
Journal name
山口県産業技術センター研究報告 = Report of Yamaguchi Prefectural Industrial Technology Institute / 山口県産業技術センター 編 (18) 2006.7
Publication Page
p.33~37
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Paper

Material Type
記事
Author/Editor
井手 幸夫
中村 聡志
仁野 章弘 他
Alternative Title
Effects of nitrogen partial pressure on the properties of Al-Cr-N films prepared by DC reactive sputtering
Periodical title
山口県産業技術センター研究報告 = Report of Yamaguchi Prefectural Industrial Technology Institute / 山口県産業技術センター 編
No. or year of volume/issue
(18) 2006.7
Issue
18
Pages
33~37
Publication date of volume/issue (W3CDTF)
2006-07