1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析 (第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

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1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析(第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京)

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Material Type: 記事
Title: 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長--赤外吸収スペクトルによる解析
Author/Editor: 中村健
野中秀彦
亀田直人他
Series Title: 第48回真空に関する連合講演会プロシーディングス--2007年11月14日～16日,東京
Author Heading: 中村健
野中秀彦
亀田直人
Alternative Title: Fabrication of a silicon oxide film by ozone and 1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane (HMDS): infrared absorption analysis on a photochemical reaction in the gas phase
Periodical title: Journal of the Vacuum Society of Japan = 真空
No. or year of volume/issue: 51(3) 2008.3
Volume: 51
Issue: 3
Pages: 224～227
Publication date of volume/issue (W3CDTF): 2008-03
ISSN (Periodical Title): 1882-2398
ISSN-L (Periodical Title): 1882-2398
Publication (Periodical Title): 東京 : 日本真空協会
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: ZN15
Target Audience: 一般
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Z16-474
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館雑誌記事索引
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 9471673
http://id.ndl.go.jp/bib/9471673
Bibliographic Record Category (NDL): 632