研磨による平坦化技術とその応用に関する研究 : 半導体ウエハとLSI多層配線における平坦化

Notes on use

Search by Bookstore

This page shows libraries in Japan other than the National Diet Library that hold the material.

Please contact your local library for information on how to use materials or whether it is possible to request materials from the holding libraries.

other

Yokohama National University Repository
Digital
You can check the holdings of institutions and databases with which 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ） is linked at the site of 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）.
Yokohama National University Repository

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 博士論文
Title: 研磨による平坦化技術とその応用に関する研究 : 半導体ウエハとLSI多層配線における平坦化
Author/Editor: 富永, 茂
Author Heading: 富永, 茂
Publication Date: 2013-03
Publication Date (W3CDTF): 2013-03
Alternative Title: Study on planarization by polishing technology and its application
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 横浜国立大学, 平成25年3月22日, 博士（工学）, 甲第1531号
Format (IMT): application/pdf
Source: 12672253.pdf （fulltext）
https://ynu.repo.nii.ac.jp/record/4621/files/12672253.pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 横浜国立大学 : 横浜国立大学学術情報リポジトリ