縦磁界印加同軸線路形マイクロ波プラズマCVD装置の開発と成膜機構の研究

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Note (General)：: 出版タイプ： AM(研究課題番号07650383) 平成8年度科学研究費補助金(基板研究(C)(2))研究成果報告書研究代表者加藤勇(早稲田大学理工学部・教授)

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Material Type: 図書
Title: 縦磁界印加同軸線路形マイクロ波プラズマCVD装置の開発と成膜機構の研究
Author/Editor: Kato, Isamu
加藤, 勇
Author Heading: Kato, Isamu
加藤, 勇
https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000080063775
Publication Date: 1997-03
Publication Date (W3CDTF): 1997-03
Pages: 1-104
Text Language Code: eng
Target Audience: 一般
Note (General): 出版タイプ： AM
(研究課題番号07650383) 平成8年度科学研究費補助金(基板研究(C)(2))研究成果報告書研究代表者加藤勇(早稲田大学理工学部・教授)
Access Restrictions: インターネット公開
Data Provider (Database): 国立情報学研究所 : 学術機関リポジトリデータベース（IRDB）（機関リポジトリ）
https://irdb.nii.ac.jp
Original Data Provider (Database): 早稲田大学 : 早稲田大学リポジトリ